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有消息來源指出，在新世代的 iPhone 鏡頭模組上，將很有可能透過新的 ALD 原子層沉積（Atomic Layer Deposition）薄膜製程，來進一步改善 iPhone 長久存在甚至已經變成拍攝特色之一的鬼影與耀光問題。繼續閱讀報導指 iPhone 16 Pro 將再對相機鬼影耀光問題拿出辦法報導內文。
報導指 iPhone 16 Pro 將再對相機鬼影耀光問題拿出辦法
保護貼？不用！沾指紋？不怕！鬼影耀光？不再有！（嗎？）沒有鍍膜沒辦法解決的事情，如果有，那就「繼。續。進。化！」
最近才在新世代 M3 MacBook Pro 以及 MacBook Air 外殼採用特殊陽極處理密封技術的塗層，進一步減少指紋沾染外殼的問題的 Apple。不僅在最新的 iPhone 機型謠傳消息裡，被爆料已經準備引進超硬 AR 層鍍膜，可能要讓保護貼失去用武之地，進一步提升玻璃耐刮能力。
現在則是有消息來源指出，在新世代的 iPhone 鏡頭模組上，將很有可能透過新的 ALD 原子層沉積（Atomic Layer Deposition）薄膜製程，來進一步改善 iPhone 長久存在甚至已經變成拍攝特色之一的鬼影與耀光問題。
根據相關技術的資料說明，ALD 原子層沉積薄膜製程技術可以將物質透過每一循環只沉積單層原子膜的方式精準控制厚度。據稱在均勻性、致密性與穩定度都很好，如應用在相機元件則是能進一步將材料層控制在極低的厚度。目前則是被爆料，很可能就要被運用在次世代 iPhone 的相機鏡組抗反射鍍膜，進一步改善像是太陽等點光源照射時造成的偽影問題。
講起來，在目前的 iPhone 15 Pro 系列上，蘋果就已經宣稱已經有改進耀光的狀況。實際在上市之後的實測中，我們也的確看到相較前代，這次的 iPhone 系列的確針對耀光問題有了相當明顯的改善。只是針對會有疊影狀況的「鬼影」問題部分卻是依然存在。
一直以來，iPhone 所搭載的攝影系統雖然在 PreRes 錄影與 ProRAW 等各方面都持續有對應更專業使用的相關進化。然而在 iPhone 14 系列之前，大部分人都猜測這個官方始終沒有特別說明的鬼影耀光問題，很可能是因為運算式攝影多張合成的需要而無法消除的存在。
然而從 iPhone 15 Pro 系列開始，蘋果卻帶來了對應耀光方面的改進。進一步改善了強光下容易造成的對比大幅降低問題。現在看來，雖然現階段還不能確定參考來源中所謂的「次世代 iPhone」指的是否就是外媒列出的 iPhone 16 Pro 系列新品（可能會等到 iPhone 17 Pro？）。不過至少能知道，蘋果應該是真的開始著手改進，這個可能會阻礙消費者入手 iPhone 的老問題。
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